positive photoresist

  • 释义

    正性胶,正性光致抗蚀剂

数据更新时间:2026-04-19 19:07:55
1、

Dissolution inhibition mechanisms of positive photoresist based on novolak-dnq

酚醛-重氮萘醌正性抗蚀剂溶解抑制机理

互联网摘选

2、

In the paper diazonaphthoquinone positive photoresist composition for LCD was studied.

文章是有关用于LCD的重氮萘醌系正性抗蚀剂的研究.

互联网摘选

3、

The mechanisms of dissolution inhibition of positive photoresist based on novolak ( NVK)-diazonaphthoquinone ( DNQ), including ( 1) the molecular hydrogen bonding interactions between novolak and DNQ;

本文综述了酚醛重氮萘醌正性抗蚀剂的溶解抑制机理,主要包括(1)分子间氢键作用机理;

互联网摘选

4、

Studies on a Novel Deep UV Positive Photoresist Material

一种新型深紫外正型光致抗蚀剂材料的研究

互联网摘选

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